特許

J-GLOBAL ID：200903052007468607

シリコンウェーハの生産から生じるスラリー廃棄物の利用法

発明者： クヌート ヘンリクセン
出願人/特許権者： メタルクラフト エーエス
代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-073588
公開番号（公開出願番号）：特開2002-167280
出願日： 2001年03月15日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、シリコンウェーハの生産から生じるスラリー廃棄物の利用法に関するものである。より詳細には、本発明は、特定のセラミックスの生産等の他の工業プロセスにおける原料としてのシリコンウェーハを鋸引きまたはスライスする際に生じるスラリーの固体フラクションを、窒化ケイ素結合炭化ケイ素及び/又はケイ素結合炭化ケイ素等として利用するための方法に関するものである。【解決手段】 非酸化物セラミックスを製造するための方法であって:・前記方法が、Si粒子及びSiC粒子の混合物とオイルまたはグリコールからなる液体とを包含するスラリー廃棄物を使用し;・前記スラリー廃棄物のうちのすべてもしくは殆どの液体フラクションを取り除くために、前記スラリー廃棄物を分離プロセスにかけ;そして・結果として得られた粉末混合物を通常のプロセスにかけて前記非酸化物セラミック材料を形成する;ことを特徴とする、非酸化物セラミックスの製造方法。

請求項（抜粋）：

非酸化物セラミックスを製造するための方法であって:・前記方法が、Si粒子及びSiC粒子の混合物とオイルまたはグリコールからなる液体とを包含するスラリー廃棄物を使用し;・前記スラリー廃棄物のうちのすべてもしくは殆どの液体フラクションを取り除くために、前記スラリー廃棄物を分離プロセスにかけ;そして・結果として得られた粉末混合物を通常のプロセスにかけて前記非酸化物セラミック材料を形成する;ことを特徴とする、非酸化物セラミックスの製造方法。

IPC (7件)：

C04B 35/565 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/12 ,  C02F 11/12 ZAB ,  C04B 35/626 ,  C04B 35/00 ,  C21B 11/02

FI (8件)：

C02F 11/00 M ,  C02F 11/12 A ,  C02F 11/12 ZAB Z ,  C21B 11/02 ,  C04B 35/56 101 J ,  C04B 35/00 A ,  C04B 35/00 V ,  C04B 35/56 101 P

Fターム (25件)：

4D059AA30 ,  4D059BB02 ,  4D059BB11 ,  4D059BD11 ,  4D059BD19 ,  4D059BE31 ,  4D059BE51 ,  4D059BK08 ,  4D059CC10 ,  4D059EB06 ,  4D059EB08 ,  4D059EB16 ,  4D059EB20 ,  4G001BA22 ,  4G001BA62 ,  4G001BA76 ,  4G001BB32 ,  4G001BC01 ,  4G001BC48 ,  4G030AA47 ,  4G030AA52 ,  4G030GA01 ,  4G030GA24 ,  4G030GA27 ,  4K012CB02