特許

J-GLOBAL ID：200903052011283204

ウエハの洗浄方法

発明者： 逢坂 勉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-184095
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019787
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】ウエハに付着した無機性或いは有機性汚染物質、特にウエハに付着した微粒子状の汚染物質を、少ない薬品使用量で確実に除去できるウエハの洗浄方法を提供する。【解決手段】本方法は、酸化性ガスとウエハとを接触させ、ウエハ表層を酸化してウエハ表面上に酸化膜を生成させる酸化膜生成工程(ステップS1)と、ウエハをIPA蒸気と水蒸気の混合蒸気に接触させて、混合蒸気の液膜を形成する液膜形成工程(ステップS2)と、ウエハをエッチングガスに接触させ、ウエハ表面上の酸化膜をエッチングして除去する酸化膜エッチング工程(ステップS3)と、リンス処理工程(ステップS4)と、乾燥処理工程(ステップS5 、S6)とを有する。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

ウエハを洗浄して、ウエハの表面に付着している物質を除去する方法であって、 酸化性ガスをウエハに接触させ、ウエハ表層を酸化してウエハ面上に酸化膜を生成させる酸化膜生成工程と、 水蒸気と、水に対する親和性を有する有機溶剤蒸気との混合蒸気をウエハに接触させ、ウエハ上に混合蒸気の液膜を形成する液膜形成工程と、 エッチングガスをウエハに接触させ、ウエハ面上の酸化膜をエッチングして除去する酸化膜エッチング工程と を有することを特徴とするウエハの洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L21/304 ,  H01L21/302

FI (6件)：

H01L21/304 645Z ,  H01L21/304 645B ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 651A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/302 201A

Fターム (6件)：

5F004AA14 ,  5F004BA19 ,  5F004DA00 ,  5F004DB03 ,  5F004EA34 ,  5F004EB08