特許

J-GLOBAL ID：200903052031795775

高純度炭酸ガス精製プラントにおける原料ガスの処理方法

発明者： 上野山 清 ,  若村 修 ,  大森 正直 ,  中村 泰三 ,  森山 武光
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社
代理人 (1件)： 藤本 博光 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-313155
公開番号（公開出願番号）：特開平5-124808
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【構成】 転炉ガス、高炉ガス等のボイラー燃焼ガスよりPSA装置で分離した粗製炭酸ガスの予備処理工程で、Pt,Pd,Ni等の水素化分解触媒を充填した分解塔で圧力3〜5kg/cm2 G、温度60〜100°Cの条件下で、O2 をH2 Oに、NO,NO2 を分解し、アンモニアの生成を防ぎ、脱湿器、脱臭塔を経て、液化蒸留精製装置に装入して、高純度液化炭酸ガスを得る方法。【効果】 水素化分解塔で、生成したH2 Oを凝縮させることなく、NO,NO2 を分解し、アンモニアの生成を防ぐ条件を選定したので、後続の脱臭塔の負担も軽くなり、液化蒸留塔にNOの入る量も微量となり、安定して高純度の液化炭酸ガスが得られる。

請求項（抜粋）：

ボイラー等からの燃焼排ガス中に含まれる炭酸ガスを圧力変動吸着法により処理して、粗製炭酸ガスを得た後、圧縮状態下の液化蒸留精製装置で高純度炭酸ガスに精製するに先立って、前記粗製炭酸ガスを圧力3〜5kg/cm2 Gに予備圧縮し、水素化分解用触媒充填塔に装入し、温度60°C以上、100°C以下の条件下で水素化分解し、次いで15〜20kg/cm2 Gに加圧して、水分及び臭気分を除去してから炭酸ガスの飽和温度以下に冷却し、液化蒸留精製装置へ供給することを特徴とする高純度炭酸ガス精製プラントにおける原料ガスの処理方法。

IPC (5件)：

C01B 31/20 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/36 ,  B01J 23/40 ,  B01D 15/00 101