特許

J-GLOBAL ID：200903052032674157

カルボシロキサンデンドリマー

発明者： 吉武 誠 ,  小野寺 哲
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-230154
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044579
出願日： 1998年07月31日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 ポリシロキサン構造を核とし、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、高分子量化が可能で、分子量分布の狭い新規なカルボシロキサンデンドリマーを提供する。【解決手段】 一般式:X1R1aSiO(3-a)/2{R1はC1〜10のアルキル又はアリール基、aは0〜2の整数、X1は i = 1の場合の次式のシリルアルキル基である。(R1は前記と同じ、R2はC2〜10のアルキレン基、R3はC1〜10のアルキル基、Xi+1は上記シリルアルキル基またはR4である。R4はC1〜30の炭化水素基、iは該シリルアルキル基の階層を示す1〜10の整数、biは0〜3の整数である。)}のシロキサン単位を含有するSi2以上のポリシロキサン構造を核に有し、一般式(R1とR4は前記と同じである。)のシロキシ基を1個以上有するカルボシロキサンデンドリマー。

請求項（抜粋）：

一般式:X1R1aSiO(3-a)/2{式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。【化1】(式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、Xi+1は上記シリルアルキル基または炭素原子数1〜30の炭化水素基である。iは該シリルアルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、biは0〜3の整数である。)}で示されるシロキサン単位を含有するケイ素原子数2以上のポリシロキサン構造を核に有し、式:【化2】(式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R4は炭素原子数1〜30の炭化水素基である。)で示されるシロキシ基を1個以上有するカルボシロキサンデンドリマー。

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  C08G 77/50

FI (3件)：

C07F 7/08 X ,  C07F 7/18 X ,  C08G 77/50

Fターム (13件)：

4H049VN01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR21 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VW02 ,  4J035CA01N ,  4J035HA01 ,  4J035HB10