特許
J-GLOBAL ID:200903052035085624

液晶表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西野 卓嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-084692
公開番号(公開出願番号):特開平6-301053
出願日: 1993年04月12日
公開日(公表日): 1994年10月28日
要約:
【要約】【目的】液晶表示装置に用いられるTFTアクティヴマトリクスの製造方法における、露光工程の改善に関する。【構成】レジスト膜(2)の両面に、第1,第2の透明保護膜(1,3)が形成されてなるフィルムレジスト(4)の前記第2の透明保護膜(3)を剥離して前記レジスト膜(2)を露出する工程と、前記露出したレジスト膜(2)を基体(6)の所望の面に貼付する工程と、前記レジスト膜(2)を露光・現像して、前記基体(6)の所望の面上にレジストパターン(4A)を形成する工程とを含むこと。
請求項(抜粋):
レジスト膜(2)の両面に、第1,第2の透明保護膜(1,3)が形成されてなるフィルムレジスト(4)の前記第2の透明保護膜(3)を剥離して前記レジスト膜(2)を露出する工程と、前記露出したレジスト膜(2)を基体(6)の所望の面に貼付する工程と、前記レジスト膜(2)を露光・現像して、前記基体(6)の所望の面上にレジストパターン(4A)を形成する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/136 500 ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭59-063612
  • 特開昭58-136027

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