露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215312
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055784
出願日： 1994年08月16日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】本発明は、露光装置において、複数の投影光学系に対してマスク及び感光基板を同期させて走査して、マスク上のパターン領域の全面を正しく感光基板上に転写する。【構成】マスク面上及び感光基板面上の互いに対応し、かつ両端部の投影光学系に共役な位置に2組のマスク面側第1基準マーク及び感光基板面側第1基準マークをそれぞれ配すると共に、マスク面上及び感光基板面上の互いに対応しかつ重複する位置に所定方向に1列でかつ1方がマスク面側第1基準マーク及び感光基板面側第1基準マークに対して固定され、他方が移動可能な複数のマスク面側第2基準マーク及び感光基板面側第2基準マークを配し、基準マークのそれぞれ対応する複数の投影光学系による像と、基準マークとのずれ量に応じて複数の投影光学系それぞれの結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

光源の光束をマスクのパターン領域内の複数の部分領域に照射する複数の照明光学系と、所定方向に沿い、かつ該所定方向の直交方向に互いに変位して配置され、前記マスクを透過した前記光束により前記複数の部分領域それぞれの像を、隣合う前記像の前記所定方向の位置を互いに重複させて感光基板上に投影する複数の投影光学系と、該投影光学系に対して、前記所定方向の略直交方向に、前記マスク及び前記感光基板を同期させて走査する走査手段とを有し、前記マスクと前記感光基板とを前記投影光学系に対して走査することにより、前記マスクの前記パターン領域の全面を前記感光基板上に転写する露光装置において、前記マスク面上及び前記感光基板面上の互いに対応する位置で、かつ前記複数の投影光学系の配列のうち両端部の投影光学系に対して共役な位置にそれぞれ配された2組のマスク面側第1基準マーク及び感光基板面側第1基準マークと、前記マスク面上及び前記感光基板面上の互いに対応する位置で、かつ前記重複する位置に対応して前記所定方向に1列に配され、1方が前記マスク面側第1基準マーク及び前記感光基板面側第1基準マークに対して固定され、他方が移動可能な複数のマスク面側第2基準マーク及び感光基板面側第2基準マークと、前記マスク面側第1基準マーク及び前記マスク面側第2基準マークの、それぞれ対応する前記複数の投影光学系による像と、前記感光基板側第1基準マーク及び前記感光基板側第2基準マークとのずれ量、若しくは前記感光基板側第1基準マーク及び前記感光基板側第2基準マークの、それぞれ対応する前記複数の投影光学系による像と、前記マスク面側第1基準マーク及び前記マスク面側第2基準マークとのずれ量を計測するずれ量計測手段と、該ずれ量計測手段で計測された前記ずれ量に応じて、前記複数の投影光学系それぞれの結像特性を補正するレンズ調整手段とを具えることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 525 F , H01L 21/30 526 A

前のページに戻る