特許
J-GLOBAL ID：200903052044717170
露光条件測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-209790
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055946
出願日： 1996年08月08日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 レチクル上の評価用パターンの実際の露光像をLIA方式等のアライメントセンサにより計測し、ベストフォーカス位置の検出精度を向上する。【解決手段】 計測方向(X方向)に傾斜した楔状の微小マーク19を非計測方向(Y方向)に複数個並べて形成した基本マーク20A〜20Nを計測方向に格子状に配置して構成した評価用マーク18XAをレチクル上に形成する。ウエハのフォーカス位置を変えながら、且つウエハを横ずれさせながら評価用マーク18XAの像をウエハ上に転写する。ウエハを現像後、LIA方式のアライメントセンサにより評価用マーク18XAの像の位置を計測する。評価用マーク18XAの像の重心位置はウエハの表面がベストフォーカス位置に近い程、微小マーク19の尖端方向(右方向)に移動するため、そのマークの像の重心が最も右方向に位置するときのフォーカス位置をベストフォーカス位置とする。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する際の露光条件測定方法において、計測方向に楔状に形成された微小構成要素を前記計測方向に直交する非計測方向に複数個並べてなる中間構成要素を、前記計測方向に格子状に複数組配置した第1の評価用マークを用意し、該評価用マークを前記マスクパターンの配置面上で前記投影光学系の露光フィールド内の所定の計測点と共役な位置の近傍に配置し、前記評価用マークの像を前記投影光学系を介して評価用の感光基板上の異なる複数の部分領域のそれぞれに、該感光基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を変えながら投影し、前記評価用の感光基板上の部分領域のそれぞれに投影された前記評価用マークの像の前記計測方向の重心位置を、前記評価用の感光基板の前記光軸方向の位置に対応させてそれぞれ計測し、該計測結果に基づいて前記所定の計測点での前記投影光学系の最適フォーカス位置を求めることを特徴とする露光条件測定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 515 Z
