特許
J-GLOBAL ID:200903052059775125
二軸配向ポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-274868
公開番号(公開出願番号):特開平8-025473
出願日: 1994年11月09日
公開日(公表日): 1996年01月30日
要約:
【要約】【構成】実質的に非晶状態の未延伸のポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムを140°C以上200°C以下の温度で1.5倍以上3.0倍以下で1段目の延伸を行ない、続いて1段目と同一方向に1段目の延伸温度より低い温度で1段目の延伸倍率と2段目の延伸倍率の積が5.0倍以上12.0倍以下となるように延伸し、さらにこれと直行する方向に延伸することを特徴とする二軸配向ポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムの製造方法。【効果】本発明は長手方向の延伸を2段階として、しかも1段目、2段目の延伸条件を特定の範囲とすることで、優れた機械強度の二軸配向ポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムを安定して製膜することを目的とするものであり、薄膜化による機械強度の向上の要求の強い磁気記録媒体用途において特に有益に用いることができる。また磁気記録媒体用途以外にも機械強度の要求される様々な用途に広く活用が可能である。
請求項(抜粋):
実質的に非晶状態の未延伸のポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムを140°C以上200°C以下の温度で1.5倍以上3.0倍以下で1段目の延伸を行ない、続いて1段目と同一方向に1段目の延伸温度より低い温度で1段目の延伸倍率と2段目の延伸倍率の積が5.0倍以上12.0倍以下となるように延伸し、さらにこれと直行する方向に延伸することを特徴とする二軸配向ポリエチレン-2,6-ナフタレートフィルムの製造方法。
IPC (8件):
B29C 55/12
, C08J 5/18 CFD
, C08K 3/20
, C08K 5/09 KJV
, C08L 67/03 KJR
, G11B 5/704
, B29K 67:00
, B29L 7:00
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平3-086542
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特開平3-209620
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特開平4-041534
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特開昭62-143938
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特開平2-120329
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磁気記録媒体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-018416
出願人:富士写真フイルム株式会社
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