プロジェクタ及び投写装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：西和哉 , 志賀正武 , 青山正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-254505
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076643
出願日： 2006年09月20日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】投写される画像の高輝度化及び高解像度化を図るとともに、簡易な構成により投写される画像のサイズや位置を変更することが可能なプロジェクタ及び投写装置を提供すること。【解決手段】空間光変調素子30R,30G,30Bを有する複数の投写前光学系2,3と、空間光変調素子30R,30G,30Bにより変調された画像を投写する投写光学手段40とを備え、該投写光学手段40が、複数の投写前光学系2,3のそれぞれに対応して設けられ、複数の投写前光学系2,3の空間光変調素子30R,30G,30Bの像の少なくとも一部がそれぞれ異なる領域に結像するように投写する複数の第1投写手段41と、複数の第1投写手段41の結像位置または結像位置の近傍の像を被投写面に投写する第2投写手段42とを有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

入射した光を画像情報に応じて変調する複数の空間光変調素子を備え、分割した画像を前記複数の光変調素子にそれぞれ表示させるプロジェクタであって、前記空間光変調素子を有する複数の投写前光学系と、前記空間光変調素子により変調された画像を投写する投写光学手段とを備え、該投写光学手段が、前記複数の投写前光学系のそれぞれに対応して設けられ、前記複数の投写前光学系の空間光変調素子の像の少なくとも一部がそれぞれ異なる領域に結像するように投写する複数の第1投写手段と、前記複数の第1投写手段の結像位置または結像位置の近傍の像を被投写面に投写する第2投写手段とを有することを特徴とするプロジェクタ。

IPC (4件)：

G03B 21/00 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , H04N 5/74

FI (4件)：

G03B21/00 E , G02F1/13 505 , G02F1/1335 , H04N5/74 Z

Fターム (55件)：

2H088EA14 , 2H088EA15 , 2H088EA18 , 2H088HA13 , 2H088HA14 , 2H088HA24 , 2H088HA28 , 2H088MA03 , 2H091FA05X , 2H091FA05Z , 2H091FA14Z , 2H091FA26X , 2H091FA26Z , 2H091FA35X , 2H091FA35Y , 2H091FA41Z , 2H091FD04 , 2H091FD12 , 2H091FD13 , 2H091LA16 , 2H091MA07 , 2H191FA11X , 2H191FA11Z , 2H191FA14X , 2H191FA14Y , 2H191FA31Z , 2H191FA56X , 2H191FA56Z , 2H191FA81Z , 2H191FD04 , 2H191FD32 , 2H191FD33 , 2H191LA21 , 2H191MA11 , 2K103AA01 , 2K103AA05 , 2K103AA11 , 2K103AA16 , 2K103AB04 , 2K103BC23 , 2K103BC43 , 2K103BC44 , 2K103BC47 , 2K103CA08 , 2K103CA14 , 2K103CA19 , 2K103CA26 , 5C058AA06 , 5C058BA05 , 5C058BA21 , 5C058BA23 , 5C058BA35 , 5C058EA03 , 5C058EA11 , 5C058EA26

引用特許：

出願人引用 (2件)

マルチプロジェクションシステムのための画像補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-060642 出願人：セイコーエプソン株式会社
液晶リアプロジェクタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-051462 出願人：株式会社富士通ゼネラル

審査官引用 (10件)

画像投影表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-407829 出願人：オリンパス株式会社
特開平1-161981
特開平4-345157

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