特許

J-GLOBAL ID：200903052094762770

露光方法

発明者： 山添 賢治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132455
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332194
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：

【要約】【課題】 コンタクトホールパタン形成のためのバイナリマスクを用いて位相シフトマスクと同等の解像力を実現でき、かつ各コンタクトホールパタンの大きさにおける誤差を少なくすることができる露光方法を提供する。【解決手段】 遮光部材の間に配置された透光部がウエハ上に周期的コンタクトホールパタンを形成するように配置されているバイナリマスクを照明し、前記マスクパタンの像を投影光学系を介してウエハ上に露光する方法において、マスクを光軸と垂直な方向にマスクパタン特有の移動量に応じて移動させ、複数回露光を行うことによって、マスクパタンの周期の半分に対応する周期を持つ周期的コンタクトホールパタンをウエハ上に転写することを特徴とする露光方法を提供する。

請求項（抜粋）：

遮光部材の間に配置された透光部がウエハ上に周期的コンタクトホールパタンを形成するように配置されているバイナリマスクを照明し、前記マスクパタンの像を投影光学系を介してウエハ上に露光する方法において、マスクを光軸と垂直な方向にマスクパタン特有の移動量に応じて移動させ、複数回露光を行うことによって、マスクパタンの周期の半分に対応する周期を持つ周期的コンタクトホールパタンをウエハ上に転写することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 514 C

Fターム (4件)：

5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046CC14