特許

J-GLOBAL ID：200903052105081362

感放射線性樹脂組成物

発明者： 梶田 徹 ,  大田 利幸 ,  小林 英一 ,  三浦 孝夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-054164
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216234
出願日： 1992年02月06日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【構成】放射線の照射により酸を発生する化合物(酸発生剤)を含有する感放射線性樹脂組成物において、上記酸発生剤として、例えば下記式(1)【化1】で表わされる構造の酸発生剤を含有していることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【効果】現像性、解像度、パターン形状、耐熱性および残膜性に優れたネガ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物、特に紫外線からエキシマレーザー以下の波長の放射線照射に至るまで好適に使用されうる感放射線性樹脂組成物を提供する。特に、現像時の露光部の膨潤、蛇行といった現象が、効果的に抑制された化学増幅型ネガレジストを提供することである。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂および放射線の照射により酸を発生する化合物(I)を含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記化合物(I)の少なくとも1部が芳香環に直接置換した置換基として、CH2OX基(ここで、Xは同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換メチル基、置換エチル基、シリル基、アルコキシカルボニル基およびアシル基から選ばれる)および1,2-ナフトキノンジアジドスルホニルオキシ基を有する芳香族化合物であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027