特許

J-GLOBAL ID：200903052129885322

エーテル第3級アミンの製法

発明者： 増田 洋之 ,  西本 宇一郎 ,  福島 哲朗 ,  安倍 裕
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403424
公開番号（公開出願番号）：特開2002-201165
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】【課題】 反応収率及び選択性が高く、工業的に操作性と経済性に優れたエーテル第3級アミンの製法の提供。【解決手段】 一般式(1)で表されるエーテル第1級アミン又はエーテル第2級アミンに対し、Pd、Pt、Rh、Re及びRuから選ばれる元素を含有する金属触媒の存在下、反応温度60〜200°C、0.5MPa(ゲージ圧)以上の水素圧下で、アルデヒド(R3CHO)を添加する一般式(3)で表されるエーテル第3級アミンの製法。R1-O-CH2CH2CH2-NH2-n-(CH2CH2CH2-O-R2)n (1)R1-O-CH2CH2CH2-N(CH2R3)2-n-(CH2CH2CH2-O-R2)n (3)〔R1及びR2はC6〜C24の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R3はH又はC1〜C5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、nは0又は1を示す。〕

請求項（抜粋）：

一般式(1)R1-O-CH2CH2CH2-NH2-n-(CH2CH2CH2-O-R2)n (1)〔式中、R1及びR2は炭素数6〜24の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、nは0又は1を示す。〕で表されるエーテル第1級アミン又はエーテル第2級アミンに対し、Pd、Pt、Rh、Re及びRuから選ばれる1種以上の元素を含有する金属触媒の存在下、反応温度60〜200°C、0.5MPa(ゲージ圧)以上の水素圧下で、一般式(2)R3CHO (2)〔式中、R3は水素原子又は炭素数1〜5の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。〕で表されるアルデヒドを添加する一般式(3) R1-O-CH2CH2CH2-N(CH2R3)2-n-(CH2CH2CH2-O-R2)n (3)〔式中、R1、R2、R3及びnは前記と同じ意味を示す。〕で表されるエーテル第3級アミンの製法。

IPC (3件)：

C07C213/02 ,  C07C217/08 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C213/02 ,  C07C217/08 ,  C07B 61/00 300

Fターム (10件)：

4H006AA02 ,  4H006AC11 ,  4H006AC52 ,  4H006BA25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H039CA10 ,  4H039CA12 ,  4H039CA71 ,  4H039CB30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭60-130551
  
• 特開昭64-016751
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭60-130551