特許

J-GLOBAL ID：200903052141395217

面位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 三浦 聖也
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265745
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081320
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】 ウエハー面の位置を高精度に検出し、レチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハー面上に高い光学性能を有して投影することのできる面位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 投影光学系の結像面近傍に設けた物体面の光軸方向の面位置情報を投影パターンを用いて検出する際、該投光光学系と受光光学系の略瞳面には、各々計測用パターンを介した計測光束と参照明パターンを介した参照光束とを通過させる為の複数の開口を有する絞りと、該絞りの該複数の開口のうち少なくとも1つの開口部に対して該参照光束を偏向させる光束偏向部材とを設けており、該計測光束は該物体面で反射して、該受光光学系で該光検出素子に導光しており、該参照光束は該物体面で反射しないで受光光学系で該光検出素子に導光していること。

請求項（抜粋）：

投影光学系の結像面近傍に設けた物体面に該投影光学系の光軸に対して斜方向から投光光学系によりパターンを投影し、該物体面上に形成したパターンの像を受光光学系によって光検出素子面上に結像し、該光検出素子からの信号を利用して該物体面の光軸方向の面位置情報を検出する面位置検出装置において、該投光光学系の略瞳面と受光光学系の略瞳面には、各々計測用パターンを介した計測光束と参照明パターンを介した参照光束とを通過させる為の複数の開口を有する絞りと、該絞りの該複数の開口のうち少なくとも1つの開口部に対して該参照光束を偏向させる光束偏向部材とを設けており、該計測光束は該物体面に入射し、該物体面で反射して、該受光光学系で該光検出素子に導光しており、該参照光束は該物体面で反射しないで受光光学系で該光検出素子に導光しており、該光検出素子で得られる信号を用いて該物体面の面位置情報を求めていることを特徴とする面位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/24 C ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 526 B

Fターム (29件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA37 ,  2F065AA54 ,  2F065CC20 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065DD10 ,  2F065DD14 ,  2F065EE06 ,  2F065FF10 ,  2F065FF51 ,  2F065GG07 ,  2F065GG12 ,  2F065HH12 ,  2F065LL10 ,  2F065LL21 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB08 ,  5F046DC10