特許
J-GLOBAL ID:200903052151419505
低濃度CO含有排ガス処理用触媒と低濃度CO含有排ガス処理方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松本 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-186672
公開番号(公開出願番号):特開2006-007072
出願日: 2004年06月24日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】 排ガス中に含まれる低濃度COを効率良く除去できる、低濃度CO含有排ガス処理用触媒と、それを用いた低濃度CO含有排ガス処理方法を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる低濃度CO含有排ガス処理用触媒は、担体としてのチタン系酸化物にPt、Pd、Rh、Ru、Ir、およびAuからなる群より選ばれる少なくとも1種の貴金属が担持され、pKa≦+1.5の固体酸量が0.10mmol/g以上である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
担体としてのチタン系酸化物にPt、Pd、Rh、Ru、Ir、およびAuからなる群より選ばれる少なくとも1種の貴金属が担持され、pKa≦+1.5の固体酸量が0.10mmol/g以上である、低濃度CO含有排ガス処理用触媒。
IPC (5件):
B01J 23/58
, B01J 23/42
, B01J 27/045
, B01D 53/94
, B01J 23/652
FI (5件):
B01J23/58 A
, B01J23/42 A
, B01J27/045 A
, B01D53/36 104Z
, B01J23/64 103A
Fターム (76件):
4D048AA13
, 4D048AB03
, 4D048BA01X
, 4D048BA02X
, 4D048BA03X
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA08Y
, 4D048BA19X
, 4D048BA23Y
, 4D048BA26Y
, 4D048BA27X
, 4D048BA30X
, 4D048BA31Y
, 4D048BA32Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA43Y
, 4D048BA44Y
, 4D048BA46X
, 4G069AA03
, 4G069BB04B
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC16A
, 4G069BC16B
, 4G069BC33A
, 4G069BC50A
, 4G069BC50B
, 4G069BC51A
, 4G069BC54A
, 4G069BC59A
, 4G069BC60A
, 4G069BC60B
, 4G069BC70A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC74A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069BD05B
, 4G069BD07A
, 4G069BD08A
, 4G069BD08B
, 4G069BD15A
, 4G069CA10
, 4G069CA14
, 4G069EA02Y
, 4G169AA03
, 4G169BB04B
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC33A
, 4G169BC50A
, 4G169BC50B
, 4G169BC51A
, 4G169BC54A
, 4G169BC59A
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD05B
, 4G169BD07A
, 4G169BD08A
, 4G169BD08B
, 4G169BD15A
, 4G169CA10
, 4G169CA14
, 4G169EA02Y
引用特許:
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