特許
J-GLOBAL ID:200903052157049904
レーザ集光装置及びレーザ加工装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-035170
公開番号(公開出願番号):特開2001-228449
出願日: 2000年02月14日
公開日(公表日): 2001年08月24日
要約:
【要約】【課題】 複数の光源から出力されるレーザ光を集光して、集光スポットが小さく、かつ高エネルギー密度の集光レーザを得られるレーザ集光装置及びレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るレーザ集光装置14は、複数のレーザ光源22と、各レーザ光源22から出力されたそれぞれのレーザ光Lの波面を補正するために各レーザ光Lを変調する反射型空間光変調器38と、反射型空間光変調器38から出力された各レーザ光Lを集光する集光レンズ40とを備え、反射型空間光変調器38によって波面を揃えたレーザ光を集光レンズで集光するので、集光スポットが小さく、かつエネルギー密度が高いレーザ光が得られる。また、レーザ加工装置10は、上記のレーザ集光装置14を備える。
請求項(抜粋):
複数のレーザ光源と、前記各レーザ光源から出力されたレーザ光の波面を補正するために各レーザ光を変調する反射型空間光変調器と、前記反射型空間光変調器から出力された前記各レーザ光を集光する集光レンズと、を備えることを特徴とするレーザ集光装置。
IPC (5件):
G02F 1/061 503
, B23K 26/06
, G02F 1/01
, G02F 1/135
, H01S 5/40
FI (6件):
G02F 1/061 503
, B23K 26/06 E
, B23K 26/06 A
, G02F 1/01 E
, G02F 1/135
, H01S 5/40
Fターム (23件):
2H079AA02
, 2H079BA03
, 2H079CA02
, 2H079DA08
, 2H079EB17
, 2H092KA05
, 2H092LA03
, 2H092LA05
, 2H092LA06
, 2H092LA07
, 2H092LA12
, 2H092NA25
, 2H092PA01
, 2H092PA02
, 2H092PA12
, 2H092QA06
, 2H092RA10
, 4E068CC00
, 4E068CD03
, 4E068CD05
, 4E068CD14
, 5F073EA29
, 5F073FA30
前のページに戻る