特許
J-GLOBAL ID:200903052157049904

レーザ集光装置及びレーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-035170
公開番号(公開出願番号):特開2001-228449
出願日: 2000年02月14日
公開日(公表日): 2001年08月24日
要約:
【要約】【課題】 複数の光源から出力されるレーザ光を集光して、集光スポットが小さく、かつ高エネルギー密度の集光レーザを得られるレーザ集光装置及びレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るレーザ集光装置14は、複数のレーザ光源22と、各レーザ光源22から出力されたそれぞれのレーザ光Lの波面を補正するために各レーザ光Lを変調する反射型空間光変調器38と、反射型空間光変調器38から出力された各レーザ光Lを集光する集光レンズ40とを備え、反射型空間光変調器38によって波面を揃えたレーザ光を集光レンズで集光するので、集光スポットが小さく、かつエネルギー密度が高いレーザ光が得られる。また、レーザ加工装置10は、上記のレーザ集光装置14を備える。
請求項(抜粋):
複数のレーザ光源と、前記各レーザ光源から出力されたレーザ光の波面を補正するために各レーザ光を変調する反射型空間光変調器と、前記反射型空間光変調器から出力された前記各レーザ光を集光する集光レンズと、を備えることを特徴とするレーザ集光装置。
IPC (5件):
G02F 1/061 503 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/01 ,  G02F 1/135 ,  H01S 5/40
FI (6件):
G02F 1/061 503 ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 A ,  G02F 1/01 E ,  G02F 1/135 ,  H01S 5/40
Fターム (23件):
2H079AA02 ,  2H079BA03 ,  2H079CA02 ,  2H079DA08 ,  2H079EB17 ,  2H092KA05 ,  2H092LA03 ,  2H092LA05 ,  2H092LA06 ,  2H092LA07 ,  2H092LA12 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092PA12 ,  2H092QA06 ,  2H092RA10 ,  4E068CC00 ,  4E068CD03 ,  4E068CD05 ,  4E068CD14 ,  5F073EA29 ,  5F073FA30

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