特許
J-GLOBAL ID：200903052165588644
ポリマーの分子量分布のバイモーダル化
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山崎 行造 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-527095
公開番号（公開出願番号）：特表平11-505273
出願日： 1996年05月23日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】本発明は、モノモーダルな分子量分布を有するポリマーの分子量分布を改質してバイモーダルな分子量分布を有するポリマーを製造するための後重合プロセスを提供するが、前記ポリマーはラジカル開始剤の存在下に高い剪断の混合にさらされたとき通常は分子量の減少を示すものである。この方法は、(a)ポリマー、ポリ不飽和架橋剤、及び、所望により、ラジカル開始剤の混合物の混合物を加熱して均質な混合物を形成すること、及び(b)バイモーダルな分子量分布を有するポリマーが得られるまで、前記混合物を高い剪断混合条件にさらすこと、を含む。好ましい態様においては、剪断混合は有機ペルオキシドのようなラジカル開始剤の存在下に行われ、そして架橋剤はジアリル、ジビニル、又はジエチレン性不飽和を含む二官能性化合物である。この方法は、架橋剤の不飽和官能性を通して付加されたラジカル的に劣化されたポリマー鎖のある程度のカップリングの結果としてバイモーダルな分子量分布を有するポリマーの形成をもたらす。バイモーダルな分子量分布における高分子量種はポリマーに高い溶融強度を付与し、低分子量種は改善された加工性と溶融流れ特性を付与する。
請求項（抜粋）：
モノモーダルな分子量分布を有するポリマーの分子量分布を改質する方法であって、前記ポリマーはラジカル開始剤の存在下に高い剪断の混合にさらされたとき通常分子量の減少を示すものであり、 a) ポリマー及びポリ不飽和架橋剤、及び、所望により、ラジカル開始剤の混合物を加熱して均質な混合物を形成すること、及び b) バイモーダルな分子量分布を有するポリマーが得られるまで、前記混合物を高い剪断混合条件にさらすこと、 を含む方法。
IPC (3件)：
C08F 8/00
, C08F 8/50
, C08F291/00
C08F 8/00
, C08F 8/50
, C08F291/00
