特許

J-GLOBAL ID：200903052182590210

微細パターン複製物の作製方法及び複製物

発明者： 藤平 正道 ,  秋葉 宇一 ,  奥井 博貴 ,  藤井 慎太郎 ,  栗原 正彰
出願人/特許権者： 藤平 正道 ,  大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-116468
公開番号（公開出願番号）：特開2002-307801
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製することができる微細パターン複製物の作製方法及び複製物を提供する。【解決手段】 表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる疎水性分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子インクに浸漬することにより化学修飾を施す微細パターンの複製物を作製する。その場合に、前記微細パターンの形成後に、水溶液中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクで化学修飾を行う。

請求項（抜粋）：

表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる疎水性分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子インクに浸漬することにより化学修飾を施す微細パターンの複製物の作製方法において、前記微細パターンの形成後に、水中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクで化学修飾を施すことを特徴とする微細パターン複製物の作製方法。

IPC (5件)：

B41M 3/06 ,  B41C 1/00 ,  B41M 1/02 ,  B41N 1/06 ,  B41N 1/12

FI (5件)：

B41M 3/06 Z ,  B41C 1/00 ,  B41M 1/02 ,  B41N 1/06 ,  B41N 1/12

Fターム (33件)：

2H084AA30 ,  2H084AA40 ,  2H084BB04 ,  2H084CC01 ,  2H084CC03 ,  2H113AA01 ,  2H113AA06 ,  2H113BA01 ,  2H113BA03 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113BC00 ,  2H113CA17 ,  2H113DA25 ,  2H113EA07 ,  2H113FA05 ,  2H113FA09 ,  2H113FA10 ,  2H113FA36 ,  2H114AA01 ,  2H114AA02 ,  2H114BA01 ,  2H114DA04 ,  2H114DA25 ,  2H114DA73 ,  2H114DA78 ,  2H114EA01 ,  2H114EA05 ,  2H114EA06 ,  2H114EA08 ,  2H114GA33 ,  2H114GA34 ,  2H114GA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 有機薄膜の微細パターンの作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-282782   出願人：シャープ株式会社, 工業技術院長
• 特開平1-243025
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Journal of the American Chemical Society, 1995, Vol.117 No.37, p.9529-9534