ベッセルビーム発生方法及びそれを用いた光走査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047393
公開番号（公開出願番号）：特開平10-227992
出願日： 1997年02月15日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】焦点深度の大きなベッセルビームを簡易な構成で発生させることができるベッセルビーム発生方法及びそれを用いた光走査装置を得ること。【解決手段】円錐プリズムとほぼ等価な光学性能を有するバイナリー光学素子より成る回折光学素子1にレーザービームを入射させることにより、第1種の0次ベッセル関数の2乗に略比例する強度分布を有するベッセルビームを発生させること。

請求項（抜粋）：

円錐プリズムとほぼ等価な光学性能を有するバイナリー光学素子より成る回折光学素子にレーザービームを入射させることにより、第1種の0次ベッセル関数の2乗に略比例する強度分布を有するベッセルビームを発生させることを特徴とするベッセルビーム発生方法。

IPC (2件)：

G02B 27/09 , G02B 26/10 101

FI (2件)：

G02B 27/00 E , G02B 26/10 101

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