特許

J-GLOBAL ID：200903052188524139

長周期規則構造体の構造検査方法および検査装置および長周期規則構造体

発明者： 野間 敬 ,  宮田 浩克
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-340464
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153822
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、数nm〜数100nmの長周期規則性を有する物質の配向方向を短時間で検査する方法及び検査装置を提案することを課題とする。【解決手段】 本発明は、矩形状のX線源1より放射される1次X線2の一部又は全部を該X線源の長軸に対して平行に配置された測定試料5の表面に5°以内の入射角で入射させ、該試料の表面で回折されたX線強度分布を0次元検出器8又は1次元検出器により回折角2θとともに測定しX線回折プロファイルを得る工程1と、該測定試料を該測定試料表面内で所定の角度だけ回転させ、工程1を1回以上繰り返す工程2と工程1及び工程2より得られた複数のX線回折プロファイルより試料の長周期規則性を評価する方法を検査装置とともに提案する。

請求項（抜粋）：

X線源より放出された1次X線を微小な入射角で測定試料表面に入射させ、試料により回折されたX線を検出することで試料の長周期規則性を評価する方法において、矩形状のX線源より放射される1次X線の一部又は全部を該X線源の長軸に対して平行に配置された測定試料の表面に5°以内の入射角で入射させ、該試料の表面で回折されたX線強度分布を0次元検出器又は1次元検出器により回折角2θとともに測定しX線回折プロファイルを得る工程1と、該測定試料を該測定試料表面内で所定の角度だけ回転させ、工程1を1回以上繰り返す工程2と工程1及び工程2より得られた複数のX線回折プロファイルより試料の長周期規則性を評価する方法。

IPC (3件)：

G01N 23/201 ,  G01M 11/00 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

G01N 23/201 ,  G01M 11/00 T ,  G21K 5/02 X

Fターム (27件)：

2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001DA10 ,  2G001EA02 ,  2G001EA06 ,  2G001GA03 ,  2G001GA05 ,  2G001GA08 ,  2G001GA13 ,  2G001GA14 ,  2G001JA08 ,  2G001JA11 ,  2G001KA08 ,  2G001KA20 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001PA12 ,  2G001QA01 ,  2G001RA03 ,  2G001SA01 ,  2G001SA10 ,  2G086EE10