特許

J-GLOBAL ID：200903052194752771

磁気ディスク基板の洗浄方法および装置

発明者： 戸田 久志
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-350912
公開番号（公開出願番号）：特開平11-185254
出願日： 1997年12月19日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】 ディスク基板の洗浄工程において洗浄むらの発生をなくし、洗浄を効率的に行うことができ、かつ、スクラブロール駆動装置からの発塵によりディスク基板を汚染することのないディスク基板の洗浄方法および装置の提供【解決手段】 縦置き状態に支持され回転する磁気ディスク基板の両側面を、洗浄液の存在下にスクラブ材で挟み込むと共にスクラブ材を磁気ディスク基板の半径方向に往復動させることによって、磁気ディスク基板を洗浄することを特徴とする磁気ディスク基板の洗浄方法

請求項（抜粋）：

縦置き状態に支持され回転する磁気ディスク基板の両側面を、洗浄液の存在下にスクラブ材で挟み込むと共にスクラブ材を磁気ディスク基板の半径方向に往復動させることによって、磁気ディスク基板を洗浄することを特徴とする磁気ディスク基板の洗浄方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  B08B 1/00 ,  B08B 3/02 ,  G11B 5/704 ,  G11B 23/50

FI (5件)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 1/00 ,  B08B 3/02 F ,  G11B 5/704 ,  G11B 23/50 C