特許
J-GLOBAL ID:200903052200689254

ケース

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-234437
公開番号(公開出願番号):特開平5-074921
出願日: 1991年09月13日
公開日(公表日): 1993年03月26日
要約:
【要約】【目的】 ドライエッチング後、ケース内において、ウエハ表面のアルミニウム合金膜が大気中の水分によって腐食するのを防止する。【構成】 ケース1は、ケース本体2と蓋体3とからなり、ウエハ6を収容したカセット7を収容する。ケースは密閉容器構造となっている。ケース本体には気密維持型カプラ10が接続されている。前記カプラはガス条件設定装置25に接続可能となり、ケース内の圧力を加・減圧したり、乾燥した清浄な空気,窒素ガス,不活性ガス等の充填も可能となっている。プラズマエッチング後、ウエハを収容したカセットをケースに収容した際、前記気密維持型カプラを利用して、ケース内の収容空間5から水分を除去し、かつ不活性ガスを陽圧にして充填しておくことによって、ウエハ表面のアルミニウム合金膜の腐食を防止する。
請求項(抜粋):
ケース本体と蓋体とからなる被収容物を収容するケースであって、前記ケース本体と蓋体との合わせ面には気密維持用のシールが設けられているとともに、前記ケース本体または蓋体の少なくとも一方の外壁には前記収容空間に連通する気密維持型カプラが取り付けられていることを特徴とするケース。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H01L 21/302

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