特許
J-GLOBAL ID：200903052201886053
投影露光装置及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052750
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259035
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】複素振幅透過率分布を有する光学フィルターの光による損傷を防止した投影露光装置及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。【構成】マスクのパターンを基板上へ投影露光するため投影露光装置において、所定の振幅透過率分布を有する光学フィルターが、投影レンズの瞳面より光軸方向にずらした位置に配置された投影露光装置。又、光透過部と光不透過部の微細なパターンを有し、光透過部が光不透過部に対して光学フィルター内の局所的な領域内において占める面積比が、所定の振幅透過率分布の絶対値に実質的に等しくなるように面内で変化させた光学フィルターを投影レンズの瞳面に配置した投影露光装置。これらを用いたパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
光源と、該光源から発せられた光を用いて所望のパターンを有するマスクを照射する照明光学系と、該マスクを保持する保持手段と、該マスクのパターンを基板上へ投影露光するための投影レンズを有する投影露光装置において、所定の振幅透過率分布を有する光学フィルターが、上記投影レンズの瞳面又は瞳面に共役な面より光軸方向にずらした位置に配置されたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
