特許
J-GLOBAL ID：200903052202453045
シリコーンゴム製微細加工型の製造方法及び微細パターンを有する成形体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-051305
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248629
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：
【要約】【課題】 型の作製時間を短縮し、かつ大気中で微細で鮮明なパターンを形成することができるシリコーンゴム製微細加工型の製造方法及び微細パターンを有する成形体の製造方法を提供する。【解決手段】 金属微粒子、保護高分子あるいは高分子マトリクス、そして溶媒を含んだ金属微粒子分散液からなる金属微粒子分散膜3を基板1上に形成する工程、基板1の金属微粒子分散膜3上に液状シリコーンゴムを塗付、重合してシリコーンゴム層5を得る工程、重合したシリコーンゴム層5の表面にレーザ光を照射し、金属微粒子分散膜と接するシリコーンゴム層5の界面でパターン付けする工程、上記シリコーンゴム層5を基板1から剥離して微細加工型22を得る工程からなるシリコーンゴム製微細加工型の製造方法にある。
請求項（抜粋）：
微細パターンを有するシリコーンゴム製微細加工型の製造方法において、金属微粒子、保護高分子あるいは高分子マトリクス、そして溶媒を含んだ金属微粒子分散液からなる金属微粒子分散膜を基板上に形成する工程、該基板の金属微粒子分散膜上に液状シリコーンゴムを塗付、重合してシリコーンゴム層を得る工程、重合したシリコーンゴム層の表面にレーザ光を照射し、金属微粒子分散膜と接するシリコーンゴム層の界面でパターン付けする工程、上記シリコーンゴム層を基板から剥離して微細加工型を得る工程、からなることを特徴とするシリコーンゴム製微細加工型の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C 33/38
, B29C 59/02 B
4F202AA21
, 4F202AJ02
, 4F202AJ05
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F209AA21
, 4F209AJ02
, 4F209AJ05
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PQ11
