特許
J-GLOBAL ID：200903052207202091
誘電体多層膜フィルタとその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-114936
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307616
出願日： 2002年04月17日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】フッ素化ポリイミド基体を使用した多層膜光学フィルタに於いて、加工時の歩留まり向上の手段を提供する。【解決手段】自己支持性のある厚みを持ち、ハンドリングしやすいフッ素化ポリイミド基板に誘電体膜を積層後、多層膜側を支持材に接着・固定し、フッ素化ポリイミド基板の裏面を切削・研磨して、所定の厚さに調整し、フッ素化ポリイミド基板側から、チップサイズに切断する。また、フッ素化ポリイミド基板に誘電体層を積層後、膜応力よる基板の湾曲が発生する場合は、これを緩和し、あるいは誘電体層を保護するために、誘電体層表面にポリイミドなどの樹脂フィルムを形成する。本製造方法により歩留まり良く誘電体多層膜フィルタを製造する。
請求項（抜粋）：
自己支持性のあるフッ素化ポリイミド基板の表面に、誘電体多層膜を積層した後、誘電体多層膜側を支持材に接着・固定し、誘電体多層膜が積層されていない、フッ素化ポリイミド基板の裏面側を、切削・研磨して、フッ素化ポリイミド基板を薄膜化し、その後、チップサイズに切断する事を特徴とする誘電体多層膜フィルタの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
2H048GA04
, 2H048GA09
, 2H048GA26
, 2H048GA30
, 4F100AK17B
, 4F100AK49B
, 4F100CB001
, 4F100CB02
, 4F100EH66
, 4F100EJ273
, 4F100EJ343
, 4F100GB41
, 4F100GB56
, 4F100JG05A
, 4F100JJ03
, 4F100JK01
, 4F100JM02A
, 4F100JN00
