特許

J-GLOBAL ID：200903052214173552

リソグラフイ-用ペリクル

発明者： 久保田 芳宏 ,  樫田 周 ,  永田 愛彦 ,  野口 仁 ,  浜田 裕一 ,  熊谷 公孝
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-274564
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088359
出願日： 1991年09月26日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際のゴミよけ用として使用される、実質的に500nm以下の光を用いる露光方式におけるリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクル内面に式(CH3)3SiO1/2とSiO2の単位モル比が1:0.4 〜1:1.5 であるシリコーンレジンと、式【化7】(R1 は水酸基、メチル基またはビニル基、R2 はメチル基またはビニル基、xは正数、yは0または正数でx+y=100〜10,000)で示されるシリコーンオイルまたはシリコーンゴムとの混合物、またはこれらが少なくとも部分的に縮合したシリコーン粘着剤を塗布してなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクル内面に式(CH3)3SiO1/2と式SiO2の単位モル比が1:0.4 〜1:1.5 であるシリコーンレジンと、式【化1】(R1 は水酸基、メチル基またはビニル基、R2 はメチル基またはビニル基、xは正数、yは0または正数でx+y=100〜10,000)で示されるシリコーンオイルまたはシリコーンゴムとの混合物、またはこれらが少なくとも部分的に縮合したシリコーン粘着剤を塗布してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (5件)：

G03F 1/14 ,  C08J 7/04 ,  C08L 83/04 LRZ ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027