特許

J-GLOBAL ID：200903052215018917

レジスト組成物

発明者： 阿部 信紀
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-155479
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352692
出願日： 1998年06月04日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 電子線描画に適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ヒドロキシスチレン系化合物とアクリロニトリルおよびその誘導体との共重合体に酸不安定性基が結合した重合体を用いるとレジスト特性に優れたレジスト組成物を用いると、遠紫外線露光ばかりでなく電子線描画にも優れた解像性を安定して実現させることが可能である。

請求項（抜粋）：

一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R<SP>1</SP>〜R<SP>3</SP>、R<SP>5</SP>、R<SP>6</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子またはニトロ基であり、R<SP>4</SP>は酸不安定性基あるいは酸不安定性基を含む基である。x、yおよびzは各構造単位の割合を表し、0<x<1、0<y<1、0<z<1、x+y+z=1の任意の数である。)で表される繰り返し構造単位を有する重合体と活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分とを含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R