特許
J-GLOBAL ID：200903052222807234
洗浄物の乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤井 紘一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102529
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297663
出願日： 1998年04月14日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 短時間で洗浄物の乾燥が行え、かつ洗浄物の汚染のおそれがなく、省エネ、省薬剤を目的とした洗浄物の乾燥装置の提供にある。【解決手段】 純水と窒素ガスのそれぞれを給排水、給排気自在に構成した純水槽20と、該純水槽20と上部で開閉自在に連通38し、内部に投入した有機溶剤を高周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生させる有機溶剤ミスト発生槽30とを備え、有機溶剤ミスト発生槽30で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物50を純水槽20に浸漬した後、純水槽20と有機溶剤ミスト発生槽30とを連通させて、ゆっくりと純水を排出口22から排出し、洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き換え、さらに窒素ガス供給口24から窒素ガスを供給して有機溶剤ミストを置換排気するように構成した。
請求項（抜粋）：
純水と窒素ガスのそれぞれを給排水、給排気自在に構成した純水槽と、該純水槽と上部で開閉自在に連通し、内部に投入した有機溶剤を高周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生させる有機溶剤ミスト発生槽とを備え、有機溶剤ミスト発生槽で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物を純水槽に浸漬した後、純水槽と有機溶剤ミスト発生槽とを連通させて、ゆっくりと純水を排水し、洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き換え、さらに窒素ガスを供給して有機溶剤ミストを置換排気するように構成したことを特徴とする洗浄物の乾燥装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 651
, F26B 9/06
, F26B 21/14
H01L 21/304 651 J
, F26B 9/06 A
, F26B 21/14
