特許
J-GLOBAL ID：200903052253832202
熱フィラメントCVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-002393
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206196
出願日： 2002年01月09日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 ダイヤモンド膜等を高純度かつ効率良く形成する熱フィラメントCVD装置を提供する。【解決手段】 基板ホルダー32と、反応ガスを分解してラジカルを発生させる熱フィラメント36とを有する熱フィラメントCVD装置において、熱フィラメント36に炭素系フィラメントを使用する。炭素系フィラメント36は、塩素化塩化ビニル樹脂などの焼成後にアモルファス炭素となる高分子樹脂に黒鉛および窒化硼素を混合し所望の形状に成型後、不活性雰囲気中で焼成したものである。
請求項（抜粋）：
基板ホルダーと、反応ガスを分解してラジカルを発生させる熱フィラメントとを有する熱フィラメントCVD装置において、熱フィラメントに炭素系フィラメントを使用する熱フィラメントCVD装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C30B 29/04 G
, C23C 16/27
4G077AA03
, 4G077BA03
, 4G077DB07
, 4G077DB21
, 4G077EA01
, 4G077EA02
, 4G077EG15
, 4G077TA04
, 4G077TA11
, 4G077TB02
, 4G077TB13
, 4G077TE05
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA04
, 4K030FA17
, 4K030KA45
, 4K030KA46
