特許

J-GLOBAL ID：200903052265684950

エリスリトール連続培養法

発明者： 前田 敏弘 ,  志田 誠 ,  安部 修一
出願人/特許権者： 三菱化成株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-306402
公開番号（公開出願番号）：特開平5-137585
出願日： 1991年11月21日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：

【要約】【構成】 エリスリトール生産菌を用い、菌体の窒素含有率を2.5〜4.5%に維持しながら連続培養を行うことを特徴とするエリスリトール連続培養法。【効果】 本発明によれば、菌体の窒素含有率を特定範囲内に制御することにより、エリスリトール収率を向上させることができる。供給基質液の炭酸源と窒素源の濃度比により菌体の窒素含有率は容易に制御でき、培養中の運転コントロールが容易なので、工業的に利用しやすく産業に寄与するところ大である。

請求項（抜粋）：

エリスリトール生産菌を用い、菌体の窒素含有率を2.5〜4.5%に維持しながら連続培養を行うことを特徴とするエリスリトール連続培養法。

IPC (3件)：

C12P 7/18 ,  C12R 1:73 ,  C12R 1:01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-199584