特許

J-GLOBAL ID：200903052278247940

純水製造装置

発明者： 橋 本 信 子 ,  米 山 有 紀 子 ,  佐 藤 等 ,  内 富 成 康
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-058161
公開番号（公開出願番号）：特開平5-220478
出願日： 1991年02月28日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】【目的】 常に安定して純度の高い純水を効率よく製造しうる純水製造装置を提供する。【構成】 一段目の逆浸透装置2と、該逆浸透装置の透過水を処理する二段目の逆浸透装置3と、該透過水を処理する三段目の逆浸透装置4からなり、一段目の逆浸透装置の膜として負荷電のものを使用し、二段目の逆浸透装置の膜として、アルカリ金属イオン除去率の高いものを使用し、三段目の逆浸透装置の膜として中性で除去率の大きいものを使用し、二段目の逆浸透装置の入口にアルカリ剤の注入口を有する。

請求項（抜粋）：

一段目の逆浸透装置と、該逆浸透装置の透過水を処理する二段目の逆浸透装置と、該透過水を処理する三段目の逆浸透装置からなり、一段目の逆浸透装置の膜として負荷電のものを使用し、二段目の逆浸透装置の膜として、アルカリ金属イオン除去率の高いものを使用し、三段目の逆浸透装置の膜として中性で除去率の大きいものを使用し、二段目の逆浸透装置の入口にアルカリ剤の注入口を有することを特徴とする純水製造装置。

IPC (3件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/58 ,  C02F 9/00