特許

J-GLOBAL ID：200903052278570083

プラズマの不均一性を制御する装置およびプラズマ生成方法

発明者： ゲイリー・エス・セルウィン ,  マノジュ・ダルヴィー ,  シー・リチャード・ギャルニエリ ,  ジェイムス・ジェイ・マックギル ,  ゲイリー・ダブリュ・ラボルフ ,  マヘスワラン・スレンドラ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296306
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211705
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】 プラズマの不均一性を低減する装置を提供する。【構成】 プラズマに電位を与えることができる電極アセンブリを備えている。この電極アセンブリはプラズマの不均一性を低減するための部分を有している。プラズマの不均一性を低減するこの部分は、電位を変えることのできる埋め込み要素60を含んでいる。

請求項（抜粋）：

プラズマの不均一性を制御する装置において、前記プラズマに電位を与えることのできる電極アセンブリを備え、前記電極アセンブリはプラズマの不均一性を制御する手段を備えることを特徴とする装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L 21/302 C ,  H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭54-115075
  
• 特開昭59-208725
  
• 特開昭62-239521
  
• 特開平3-138382
  
• ウエハの静電吸着装置、ウエハの静電吸着方法、ウエハの離脱方法及びドライエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-106850   出願人：富士通株式会社
• 特開昭63-013333