特許

J-GLOBAL ID：200903052278812222

ポリイミド前駆体の製造方法

発明者： 藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177984
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033874
出願日： 1993年07月19日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性ポジ型フォトレジストなどに用いる感光性ポリイミド前駆体の製造方法を提供する。特に、ポリイミド前駆体を得る際に、イオン性の不純物が混入しない製造方法を提供することを目的とする。【構成】 解離定数がpKa<1.5以下の有機カルボン酸に特定のハロゲン化メチルエーテルを反応させて得られる反応生成物と、ポリアミック酸とを反応させてエステル化することによってポリイミド前駆体を調製する。

請求項（抜粋）：

下記(化1)にて示される有機カルボン酸と、(化2)にて示されるハロゲン化アルキルエーテルとの反応物である(化3)に、(化4)にて示される構造単位を有するポリアミック酸を反応させて、(化5)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体を得ることを特徴とするポリイミド前駆体の製造方法。【化1】(但し、水溶液中での解離定数Kaが、pKa<1.5であり、式中、Rは炭素数1以上の有機基である。)【化2】(但し、式中、R<SB>5</SB> は炭素数1以上の有機基であり、Xはハロゲン原子である。)【化3】(但し、式中、RおよびR<SB>5</SB> は炭素数1以上の有機基である。)【化4】(但し、式中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R<SB>1</SB> は4価の芳香族または脂肪族炭化水素残基、R<SB>2</SB> は2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基である。)【化5】(但し、式中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R<SB>1</SB> は4価の芳香族または脂肪族炭化水素残基、R<SB>2</SB> は2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基であり、R<SB>3</SB> は水素原子または有機基(-CH<SB>2</SB> -O-R<SB>4</SB> を含む)、R<SB>4</SB>は炭素数1以上の有機基である。)

IPC (2件)：

C08G 73/10 NTF ,  G03F 7/038 504