特許

J-GLOBAL ID：200903052283150378

塗布装置

発明者： 佐野 巧 ,  長島 文彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 山田 正紀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-214180
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024853
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】シート状物に塗布剤を層流の状態で塗布する、進退自在な塗布ヘッドを備えた塗布装置に関し、塗布ヘッドを所定位置に停止させる際に生ずる衝撃を低下させるとともに稼働率を高める。【解決手段】離間位置に後退した塗布ヘッド310を塗布位置に前進させるにあたり、塗布ヘッド310が、離間位置から前進途中の所定の待機位置までの間の第1の平均速度よりも待機位置から塗布位置までの間の第2の平均速度の方が低速で前進するように、進退機構320を制御する制御部330を備える。

請求項（抜粋）：

塗布対象のシート状物が巻き掛けられて該シート状物の塗布位置を決める塗布ロールに近接し塗布剤の層流を形成して該塗布ロールに巻き掛けられたシート状物に該塗布剤を塗布する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを、前記塗布ロールに近接した、前記塗布剤を前記シート状物に塗布する塗布位置と、前記塗布ロールから離間した所定の離間位置との間で進退させる進退機構と、前記離間位置に後退した塗布ヘッドを前記塗布位置に前進させるにあたり、該塗布ヘッドが、該離間位置から前進途中の所定の待機位置までの間の第1の平均速度よりも該待機位置から該塗布位置までの間の第2の平均速度の方が低速で前進するように、前記進退機構を制御する制御部とを備えたことを特徴とする塗布装置。

IPC (2件)：

B05C 5/00 102 ,  B05C 11/00

FI (2件)：

B05C 5/00 102 ,  B05C 11/00

Fターム (9件)：

4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA21 ,  4F042AA22 ,  4F042AB00 ,  4F042BA04 ,  4F042BA08 ,  4F042ED05