特許
J-GLOBAL ID：200903052284289337
シラシクロヘキサン化合物、その製造方法及びこれを含有する液晶組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲高▼野 俊彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-049465
公開番号（公開出願番号）：特開平8-283275
出願日： 1996年02月13日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 シラシクロヘキサン環を有する新規な液晶化合物を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)具体的には、例えば、トランス-4-(4-(4-トランス-4-(4-シアノフェニル)シクロヘキシル)ブチル)-1-n-プロピル-1-シラシクロヘキサンで表されるシラシクロヘキサン化合物。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表されるシラシクロヘキサン化合物。【化1】式中において、Rは炭素数1〜10の直鎖状アルキル基、炭素数1〜10のモノまたはジフルオロアルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状アルキル基、炭素数2〜7のアルコキシアルキル基または炭素数2〜8のアルケニル基を表す。【化2】及び【化3】は、少なくともいずれか一方は、1または4位のケイ素がH、F、Cl、CH3又はAr(Arはフェニル基又はトリル基を表す。)の置換基を持つトランス-1-シラ-1,4-シクロヘキシレンまたはトランス-4-シラ-1,4-シクロヘキシレン基で、他方はトランス-1,4-シクロヘキシレン基、上記トランス-1-シラ-1,4-シクロヘキシレン基又はトランス-4-シラ-1,4-シクロヘキシレン基を表す。Zは、CN、F、Cl、CF3、CClF2、CHClF、OCF3、OCClF2、OCHF2、OCHClF、(O)q-CY=CX1X2(qは0または1を表し、Y及びX1はそれぞれ相互に独立してH、FまたはClを表し、X2はFまたはClを表す。)、O(CH2)r(CF2)sX(r及びsは0、1または2で且つr+sが2、3または4である数を表し、XはH、FまたはClを表す。)、RまたはOR基を表す。L1はHまたはFを表す。L2はH、FまたはClを表す。
IPC (5件)：
C07F 7/08
, C07F 7/10
, C07F 7/12
, C09K 19/40
, G02F 1/13 500
C07F 7/08 R
, C07F 7/10 Q
, C07F 7/12 V
, C09K 19/40
, G02F 1/13 500
