特許
J-GLOBAL ID:200903052296066376
研磨装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
四宮 通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-323474
公開番号(公開出願番号):特開2002-134448
出願日: 2000年10月24日
公開日(公表日): 2002年05月10日
要約:
【要約】【課題】 研磨体がウエハからその周囲へはみ出すことに伴う問題を、そのはみ出し部分をガイド部材で支持することで解消する。しかも、ガイド部材及び研磨体の摩耗を低減させる。【解決手段】 ウエハ2の研磨時にウエハ2からその周囲へはみ出す研磨体7のはみ出し部分を、リング状のガイド部材5のガイド面5aで支持する。ガイド面5aは、ウエハ2の研磨面と略同一面内に位置している。ガイド部材5は、ベアリングを介して部材13に取り付けられ、ウエハ2を保持する保持部3と同軸に保持部3と独立して回転運動自在に支持されている。ガイド部材5は、研磨体7のはみ出し部分から受ける摩擦力によって、研磨体7のはみ出し部分に従動する。その結果、研磨体7のはみ出し部分とガイド部材5との相対速度が非常に小さくなり、両者の摩耗が低減する。
請求項(抜粋):
研磨体と、研磨対象物を保持する保持部とを備え、前記研磨体と前記研磨対象物との間に研磨剤を介在させた状態で、前記研磨体と前記研磨対象物との間に荷重を加え、かつ相対移動させることにより、前記研磨対象物を研磨する研磨装置において、前記研磨対象物の研磨面と略同一面内に位置するガイド面を有し、前記研磨対象物の研磨時に前記研磨対象物からその周囲へはみ出す前記研磨体のはみ出し部分を前記ガイド面で支持するガイド部材を備え、前記ガイド部材が、前記研磨対象物の研磨面と略平行な面内の所定方向に前記保持部と独立して運動自在に、支持されたことを特徴とする研磨装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 622
, H01L 21/304
, B24B 37/00
, B24B 37/04
FI (5件):
H01L 21/304 622 M
, H01L 21/304 622 F
, H01L 21/304 622 R
, B24B 37/00 A
, B24B 37/04 G
Fターム (11件):
3C058AA07
, 3C058AA11
, 3C058AA14
, 3C058AA16
, 3C058AA19
, 3C058AC01
, 3C058BC02
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA12
, 3C058DA17
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