特許

J-GLOBAL ID：200903052310903413

分離膜モジュール及びその製造方法

発明者： 古川 茂伸
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-253866
公開番号（公開出願番号）：特開2004-089838
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】耐食性、耐水性、耐水蒸気性に優れた分離膜モジュールとその製造方法を提供すること。特に、高温水蒸気を含有する混合気体を分離することに最適な分離膜モジュールとその製造方法を提供すること。【解決手段】平均粒子径が0.1μm〜5.0μmのα-アルミナ粒子2からなる多孔質支持体1の表面に、平均粒子径が0.01μm〜0.3μmのα-アルミナ粒子4からなる第一多孔質層3を0.1μm〜10.0μmの層厚みで備えるとともに、第一多孔質層3上に、平均粒子径が10nm〜100nmのチタニア膜、ジルコニア膜、チタニアとシリカの複合膜、またはジルコニアとシリカの複合膜のいずれか一種の膜による第二多孔質層5を形成し、さらに第二多孔質層5上に平均細孔径が0.1nm〜10nmの分離膜層7を備えて成り、第二多孔質層5成分の一部が第一多孔質層3中に含浸した含浸層6を設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

平均粒子径が0.1μm〜5.0μmのα-アルミナ粒子からなる多孔質支持体の表面に、平均粒子径が0.01μm〜0.3μmのα-アルミナ粒子からなる第一多孔質層を0.1μm〜10.0μmの層厚みで備えるとともに、上記第一多孔質層上に、平均粒子径が10nm〜100nmのチタニア膜、ジルコニア膜、チタニアとシリカの複合膜、またはジルコニアとシリカの複合膜のいずれか一種からなる第二多孔質層を形成し、さらに前記第二多孔質層上に平均細孔径が0.1nm〜10nmの分離膜層を備えて成り、上記第二多孔質層成分の一部が上記第一多孔質層中に含浸した含浸層を有することを特徴とする分離膜モジュール。

IPC (3件)：

B01D63/00 ,  B01D69/12 ,  C04B41/89

FI (3件)：

B01D63/00 500 ,  B01D69/12 ,  C04B41/89 A

Fターム (11件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006JB01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46