特許

J-GLOBAL ID：200903052321125471

基板の洗浄方法

発明者： 畑田 伸二
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-165353
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017766
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【構成】フッ化水素水溶液の薬液槽で発生させたフッ化水素水溶液の蒸気と、希釈用溶媒槽で発生させた希釈用溶媒蒸気とを混合させて、真空排気した反応室内に導入して、基板上の自然酸化膜を除去する方法であって、フッ化水素水溶液の温度を0〜30°Cに反応室圧力を80〜250Torrに保持する、または、フッ化水素水溶液の温度を30〜40°Cに前記反応室圧力を150〜250Torrに保持する基板の洗浄方法。【効果】基板表面の自然酸化膜のみを完全に除去することができ、しかも共存する他の酸化膜を冒さない選択的除去が可能になる。

請求項（抜粋）：

フッ化水素水溶液の薬液槽で発生させたフッ化水素水溶液の蒸気と、希釈用溶媒槽で発生させた希釈用溶媒蒸気とを混合させて、真空排気した反応室内に導入して、基板上の自然酸化膜を除去する方法であって、前記フッ化水素水溶液の温度を0〜30°Cに前記反応室圧力を80〜250Torrに保持する、または、前記フッ化水素水溶液の温度を30〜40°Cに前記反応室圧力を150〜250Torrに保持することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308

FI (4件)：

H01L 21/304 341 V ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/306 D