特許
J-GLOBAL ID：200903052322032205
低活性ジルコニアの水性ゾル及びその製法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046025
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235119
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】 半導体等材料表面に付着が起こっても、水洗で容易に除去できるような低活性コロイド状ジルコニアの安定な水性ゾルを製造すること。【解決手段】 目的とするゾルの製法は、10〜400m2/g の比表面積と20〜500nmの粒子径を有し、且つ 4〜15重量%の脱水性水分を保有する原料コロイド状ジルコニアを、 400〜1000°Cで 0.5〜50時間焼成して、 0.1〜2 重量%の脱水性水分を保有する焼成ジルコニア粉末を生成させ、次いでこの焼成ジルコニア粉末を、水溶性の酸又はアルカリが存在する水中で粉砕することにより、 5〜200m2/g の比表面積と20〜1500 nm の粒子径を有し、且つ 0.1〜3 重量%の脱水性水分を保有するコロイド状ジルコニアを 5〜80重量%の濃度に含有する安定な水性ゾルを生成させることからなる。
請求項（抜粋）：
5〜200m2 /gの比表面積と20〜1500nmの粒子径を有し、そして0.1〜3重量%の脱水性の水分を保有するコロイド状ジルコニアをそのZrO2 として5〜80重量%の濃度に含有し、そしてこのコロイド状ジルコニアのZrO2 1モル当たり0.01〜100ミリ当量の水溶性酸を更に含有するコロイド状ジルコニアの安定な水性ゾル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01G 25/02
, B01J 13/00 C
