特許
J-GLOBAL ID：200903052323970195
非線形光学材料、非線形光導波路素子及び非線形光導波路素子の形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-051426
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181530
出願日： 1993年02月16日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 最適設計の導波路形状が、容易かつ設計通り精確に形成され、光を効率的に閉じ込めることができ、したがって効率的に二次及び三次の非線形光学効果を発現し得る非線形光導波路素子を提供する。【構成】 フォトクロミック性を示し、かつ、その光異性化状態において非線形光学特性を有する化合物を薄膜3中に含有する非線形光学材料、それを用いて形成された薄膜のフォトクロミック化合物光異性化状態分布パターンを非線形光導波路5とする非線形光導波路素子及び上記非線形光学材料にフォトクロミック化合物を光異性化する光を照射して薄膜の被照射部を非線形光導波路化する非線形光導波路素子の形成法。
請求項（抜粋）：
フォトクロミック性を示し、かつ、その光異性化状態において非線形光学特性を有する化合物を含有することを特徴とする非線形光学材料。
IPC (4件)：
G02F 1/35 504
, C09K 9/02
, G02F 1/17
, G03C 1/685
