特許
J-GLOBAL ID:200903052334935073
蛍光X線分析用基板および蛍光X線分析用標準試料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-209393
公開番号(公開出願番号):特開2002-022684
出願日: 2000年07月11日
公開日(公表日): 2002年01月23日
要約:
【要約】【課題】蛍光X線分析を行うにあたり、目的物質が検出可能な面積内に収まり、かつ所望の位置に存在させることが容易にでき、分析感度を向上させると共に蛍光X線分析における位置合わせを簡単迅速に行うことができる蛍光X線分析用基板を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、液滴試料の蛍光X線分析に用いられる蛍光X線分析用基板及び蛍光において、前記基板の少なくとも片面には、金属シリコン部分と、前記金属シリコン部分より親水性が高い親水性部分とが設けられていることを特徴とする蛍光X線分析用基板である。
請求項(抜粋):
蛍光X線分析に用いられる蛍光X線分析用基板において、前記基板の少なくとも片面には、金属シリコン部分と、前記金属シリコン部分より親水性が高い親水性部分とが設けられていることを特徴とする蛍光X線分析用基板。
IPC (2件):
G01N 23/223
, G01N 1/00 102
FI (2件):
G01N 23/223
, G01N 1/00 102 B
Fターム (13件):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001FA02
, 2G001GA01
, 2G001GA13
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001QA02
, 2G001RA02
, 2G001RA04
, 2G001RA10
, 2G001RA20
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