特許
J-GLOBAL ID:200903052335617504

投影マイクロリソグラフィ装置の照明手段

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-159165
公開番号(公開出願番号):特開平8-328261
出願日: 1996年05月31日
公開日(公表日): 1996年12月13日
要約:
【要約】【課題】 高い効率をもって妥当な複雑さで適切な形状の光の点、発散、コヒーレンス及び均質性を伴ってウェハの照明を可能し、しかも、ウェハステッパとしても、ウェハスキャナとしても使用できる照明手段を提供する。【解決手段】 レーザー(1)と、対物レンズ(2)とを有し、射出瞳と、対物レンズ(2)の物体平面又は照明手段のそれと等価の平面とに、二次元ラスタ構造を有する(回折)光学ラスタ素子(8,9)が1つずつ配置されている投影マイクロリソグラフィ装置の照明手段。
請求項(抜粋):
レーザー(1)と、対物レンズ(2)とを有する投影マイクロリソグラフィ装置の照明手段において、射出瞳と、対物レンズ(2)の物体平面又は照明手段のそれと等価の平面とに、二次元ラスタ構造を有する光学ラスタ素子(8,9)が1つずつ配置されていることを特徴とする照明手段。
IPC (2件):
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527

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