シリコンウエーハおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-099371
公開番号（公開出願番号）：特開平9-266213
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】高いゲッタリング能力を有し、しかも、シリコンウエーハに及ぼすストレスが小さい多結晶シリコン膜を持つシリコンウエーハを提供する。【解決手段】一主面に多結晶シリコン膜を有するシリコンウエーハにおいて、多結晶シリコン膜が、配向性(220)成分の比率が異なるx層(xは2以上の整数である)の多結晶シリコン層が積層された多層構造を有し、その際、シリコンウエーハに接している第1の多結晶シリコン層の配向性(220)成分の比率が、第1の多結晶シリコン層の上に積層された第2〜第xの多結晶シリコン層の配向性(220)成分の比率よりも大きいことを特徴とする、シリコンウエーハ。

請求項（抜粋）：

一主面に多結晶シリコン膜を有するシリコンウエーハにおいて、多結晶シリコン膜が、配向性(220)成分の比率が異なるx層(xは2以上の整数である)の多結晶シリコン層が積層された多層構造を有し、その際、シリコンウエーハに接している第1の多結晶シリコン層の配向性(220)成分の比率が、第1の多結晶シリコン層の上に積層された第2〜第xの多結晶シリコン層の配向性(220)成分の比率よりも大きいことを特徴とする、シリコンウエーハ。

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