特許
J-GLOBAL ID:200903052342227843

フェライト焼結体、その製造方法及びインダクタ部品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 窪田 法明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-051313
公開番号(公開出願番号):特開2004-300016
出願日: 2004年02月26日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
【課題】 Ni-Cu-Zn系フェライト中のCuの解離を抑制して、飽和磁束密度Bsを良好ならしめ、インダクタの直流重畳特性を良好ならしめることが望まれていた。【解決手段】 Ni-Cu-Zn系フェライト焼結体の断面において、Cu偏析部の面積の割合を0〜2.0%とし、結晶粒内平均Cu濃度(mol%)に対する結晶粒界近傍平均Cu濃度(mol%)の比を0.96〜1.00とした。また、焼結工程の冷却段階を-300〜-2000°C/hrの降温速度で冷却させた。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
Ni-Cu-Zn系のフェライト焼結体からなり、該フェライト焼結体の結晶粒内平均Cu濃度(mol%)に対する結晶粒界近傍平均Cu濃度(mol%)の比が0.96〜1.00であることを特徴とするフェライト焼結体。
IPC (2件):
C04B35/30 ,  H01F1/34
FI (2件):
C04B35/30 C ,  H01F1/34 A
Fターム (15件):
4G018AA16 ,  4G018AA23 ,  4G018AA24 ,  4G018AB09 ,  4G018AC01 ,  4G018AC02 ,  4G018AC12 ,  4G018AC16 ,  5E041AB01 ,  5E041AB03 ,  5E041BD01 ,  5E041CA02 ,  5E041HB03 ,  5E041NN02 ,  5E041NN18
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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