特許
J-GLOBAL ID：200903052357899902
マスク検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-229882
公開番号（公開出願番号）：特開平8-094338
出願日： 1994年09月26日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】本発明は、短波長の露光処理に用いるマスクを検査することを目的とする。【構成】露光光と同一短波長のエキシマレーザ光を、露光装置の照明光学系と同一開口数に設定した検査用照射光学系(A) によりマスク(6) に照射し、このマスク(6) を通過したパターン光を、露光装置の投影系と同一開口数に設定した検査用観察光学系(B) により投影してその像を観察する。これにより、短波長の光、例えばDUV(248nm)、VUV(193nm)の波長のエキシマレーザ光をマスク(6) に照射して、微細化のマスク(6) に対する検査ができる。
請求項（抜粋）：
短波長の露光光を照明光学系を通してマスクに照射し、このマスクを通過したパターン光を投影光学系により縮小投影して被処理体に転写する露光装置に用いる前記マスクの検査を行うマスク検査装置において、前記露光光と同一波長域の光を放射する光源と、この光源から放射された光を前記マスクに照射する前記照明光学系の前記マスク側の開口数と同一に前記マスク側の開口数を合わせる可変自在の検査用照射光学系と、前記マスクを通過したパターン光を投影してその像を観察する前記投影光学系と同一開口数に前記マスク側の開口数に合わせる可変自在の検査用観察光学系と、を具備したことを特徴とするマスク検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/30
, G01M 11/00
, G01N 21/88
, G03F 1/08
, H01L 21/027
