特許
J-GLOBAL ID：200903052358999617

走査プローブ顕微鏡チップの使用方法及び該使用方法を実施するための製品又は該使用方法によって製造される製品

発明者：
マーキン チャド エー.

マーキン チャド エー. について

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パイナー リチャード

パイナー リチャード について

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ホン スンフン

ホン スンフン について


出願人/特許権者：
ノースウエスタン ユニバーシティ

ノースウエスタン ユニバーシティ について


代理人 (1件)： 清水 初志 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-587865
公開番号（公開出願番号）：特表2003-534141
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2003年11月18日
要約：
【要約】本発明は、「つけペン」ナノリソグラフィ("dip pen" nanolithography:DPN)と呼ばれるリソグラフ法を提供する。DPNは、走査プローブ顕微鏡(SPM)チップ(例えば、原子間力顕微鏡(AFM)チップ)を「ペン」として、固体の基板(例えば、金)を「紙」として、該固体の基板に対する化学親和性を有する分子を「インク」として利用する。DPNでは、SPMチップから固体基板への分子の毛管移動を使用して、分子の比較的小さい集合からなるパターンをマイクロメートル以下の大きさで直接書く。したがって、DPNは種々のマイクロスケールおよびナノスケールの装置を作成する上で有用である。本発明はまた、マイクロメートル以下のコンビナトリアルアレイを含む、DPNでパターン作成された基板、ならびに、DPNを実施するためのキット、装置、およびソフトウェアを提供する。本発明はさらに、空気中でAFM撮像を実施する方法を提供する。該方法は、AFMチップを疎水性化合物で被覆する段階を含み、該段階において、該疎水性化合物は、被覆していないAFMチップを用いて行ったAFM撮像と比較して被覆したAFMチップを用いて行ったAFM撮像のほうが向上するように選択される。本発明はまた、疎水性化合物で被覆したAFMチップを提供する。
請求項（抜粋）：
以下の段階を含む、ナノリソグラフィの方法: 基板を提供する段階; 複数の走査プローブ顕微鏡チップを提供する段階であって、該複数のチップがイメージングチップおよび少なくとも1つの書き込みチップ(writing tip)を含む段階; 該チップを1つのパターニング化合物または複数のパターニング化合物で被覆する段階;および 複数の所望のパターンを生成するために、該被覆したチップを使用して該化合物を該基板に塗布する段階であって、各書き込みチップが該イメージングチップと同一パターンを生成する段階。
IPC (2件)：
B82B 3/00 ZNM ,  H01L 21/027
FI (2件)：
B82B 3/00 ZNM ,  H01L 21/30 502 D
Fターム (4件)：
5F046AA28 ,  5F046BA07 ,  5F046BA10 ,  5F046CA10
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-173278
  • 試料表面加工用チップ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-045287   出願人：日本電子株式会社
  • 特開平4-241238
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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