特許
J-GLOBAL ID：200903052370758358
露光方法及び縮小投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
早瀬 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163921
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335207
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】 ステップアンドリピートによる転写作業において、予め周辺露光されたウエハ上面のレジストのウエハエッジ部でのレジストの発泡を抑えることができる縮小投影露光装置を得る。【構成】 2次元に移動し、その上面にウエハ2を載置してステップアンドリピート時に定寸移動するステージ3のウエハ載置面に、ウエハ2のエッジ部を露光光から遮る遮光部材6を設ける。
請求項（抜粋）：
ウエハの上面に成膜されたレジストのウエハエッジに対応する部分を所定の露光量にて露光し、この後、上記ウエハを定寸送りして、該定寸送りするたび毎に上記レジストに露光を行うステップアンドリピートにより、レチクルに描画されたパターンを上記レジストに転写する露光方法において、上記ステップアンドリピートによってパターン転写を行う間、上記ウエハエッジに対応する部分のレジストを遮光しておくことを特徴とする露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 361 W
