特許

J-GLOBAL ID：200903052371766419

カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子

発明者： 須藤 正法 ,  小佐野 永人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217420
公開番号（公開出願番号）：特開2003-029020
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：

【要約】【課題】 インクジェット方式によるカラーフィルタの製造方法において、混色、白抜け、着色画素内の色ムラを防止する。【解決手段】 感光性樹脂組成物からなるインク受容層をパターン露光して非着色部と被着色部を形成し、該被着色部にインクジェット方式によりインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、基板上にブラックマトリクスを形成し、上記パターン露光の後、インク受容層に赤外線を照射してブラックマトリクスに重なる領域のインク受容層のみを高温にしてインク吸収性を低下させ、非着色部におけるインクの混色防止効果を向上させる。

請求項（抜粋）：

基板上に複数の開口部を有する遮光層と、複数色の着色部を色毎に複数個備えた着色層とを備えたカラーフィルタの製造方法であって、基板上に複数の開口部を有する遮光層を形成する工程と、上記遮光層を覆って、少なくとも光照射によってインク吸収性が変化し、加熱によってインク吸収性が低下する感光性樹脂組成物層からなるインク受容層を形成する工程と、上記インク受容層をパターン露光して、少なくとも上記遮光層の開口部に重なる領域にインク吸収性の高い被着色部を形成し、且つ、上記遮光層に重なる領域の少なくとも一部の隣接する被着色部間に該被着色部よりもインク吸収性の低い非着色部を形成する工程と、上記インク受容層に赤外線を照射し、上記遮光層に重なる領域のインク受容層のインク吸収性を低下させる工程と、上記インク受容層の被着色部にインクジェット方式により所定の着色パターンに従ってインクを付与して着色し、着色部を形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

FI (2件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

Fターム (17件)：

2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB23 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Y ,  2H091FA02Z ,  2H091FA35Y ,  2H091FC01 ,  2H091FC22 ,  2H091GA16 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA16