特許
J-GLOBAL ID：200903052378443623
向流収着によるヘテロ原子の除去
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山崎 行造 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-510986
公開番号（公開出願番号）：特表2000-516663
出願日： 1997年08月22日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：
【要約】本発明は、石油及び化学的炭化水素流れから、特にプロセスのエクスカーション中に、ヘテロ原子を除去するための方法に関する。本発明は、炭化水素流れと水素含有処理ガスが通過して流れる少なくとも2つの領域から成る。第一の領域は、水素含有処理ガスと接触してヘテロ原子水素処理触媒の床を含み、第二の領域は、ヘテロ原子収着剤物質を含み、その中を炭化水素流れは上向きに流れる水素含有処理ガスに対して向流式に流れる。
請求項（抜粋）：
1.炭化水素流れからヘテロ原子を除去する方法であって、 (a)前記供給原料流れをヘテロ原子水素処理触媒の床を含む第一の反応領域に 水素含有処理ガスと接触させて供給する工程であって、前記第一の反応領域 が前記供給原料流れのヘテロ原子含分の第一の部分を除去するのに有効な条 件で運転され、ここで前記供給原料流れから除去される前記第一の部分が2 0乃至100%の範囲内である工程、 (b) (a)からの液体生成物流れをヘテロ原子収着剤物質の床を含む収着剤領域 に水素含有処理ガスと接触させて供給する工程であって、(a)からの前記液 体生成物流れと前記水素含有処理ガスが向流方向に流れ、前記収着剤領域が (a)からの前記液体生成物流れからヘテロ原子の第二の部分を除去するのに 有効な条件で運転され、ここで前記供給原料流れから除去される前記第二の 部分が0乃至80%の範囲内である工程、及び (c)(b)からの液体生成物を回収する工程であって、残留するヘテロ原子の量が 、ヘテロ原子除去処理を施されていない出発炭化水素供給原料に基づいて、 0乃至80%の範囲内である工程、 を含む方法。2.(d)(c)からの前記液体生成物流れに、さらに、ヘテロ原子に対して感受性を 有する触媒を含むプロセス、触媒を含まない第二のヘテロ原子に対して感受性 を有するプロセス、ヘテロ原子に対して感受性を有する生成物の処置、及びそ れらの組合せから成る群から選択されるヘテロ原子に対して感受性を有するプ ロセスを施す工程を含む、請求項1の方法。3.(a)の反応領域が、お互いに向流式に流れるプロセス流れと水素含有処理ガ ス流れを使用して運転される、請求項1の方法。4.(d)のヘテロ原子に対して感受性を有するプロセスが、前記液相流出物が水 素含有処理ガスに対して向流で処理される、ヘテロ原子に対して感受性を有す る水素処理触媒の床を含む少なくと1つの反応領域を含む、請求項2の方法。5.前記のヘテロ原子に対して感受性を有するプロセスが、前記液相流出物が水 素含有処理ガスに対して並流で処理される、ヘテロ原子に対して感受性を有す る水素処理触媒の床を含む少なくと1つの反応領域である、請求項2の方法。6.前記供給物流れが、初めに、ヘテロ原子水素処理触媒を含む少なくとも1つ の並流式反応領域において水素含有処理ガスで処理される、請求項3の方法。7.ヘテロ原子収着剤がヘテロ原子を、本質的に非可逆的な収着であるように十 分な結合エネルギーで結合する、請求項1の方法。8.前記ヘテロ原子収着剤が、塊状の材料としての又は高表面積支持体上に分散 された、還元された金属又は金属酸化物である、請求項7の方法。9.前記ヘテロ原子収着剤も、前記有機ヘテロ原子分子の水素との対応するヘテ ロ-ヒドリドを生成する反応に対して触媒作用を有する、請求項1の方法。10.前記ヘテロ原子収着剤が、塊状の材料としての、又は高表面積支持体、特に 、ゼオライト支持体、上に分散された、還元された金属、金属酸化物、又は金 属硫化物である、請求項9の方法。11.前記ヘテロ-ヒドリドと前記収着剤の結合エネルギーが有機ヘテロ原子と執 着剤の結合エネルギーよりも小さいため、前記ヘテロ-ヒドリドが脱着され上 流向きに流れる処理ガスによって上流向きに運ばれる、請求項9の方法。12.前記ヘテロ原子収着剤が、塊状の材料としての、又は高表面積支持体、特に 、ゼオライト支持体、上に分散された、還元された金属、金属酸化物、又は金 属硫化物である、請求項11の方法。13.金属、金属酸化物、又は金属硫化物の前記金属が、1種の貴金属又は複数種 の貴金属の組み合わせである、請求項12の方法。14.前記ヘテロ原子収着剤が前記ヘテロ原子を本質的に可逆的な収着であるよう に十分に弱い結合エネルギーで結合し、前記ヘテロ原子収着剤が前記ヘテロ原 子を前記下流のプロセス対する影響が無視できるような速度で放出する、請求 項1の方法。15.前記ヘテロ原子収着剤がゼオライト、アルミナ、クレー、酸性塩、スピネル 、活性炭、アルミノ珪酸塩、ハイドロタルサイト、又はそれらの組み合わせで ある、請求項14の方法。16.前記ヘテロ原子収着剤が前記ヘテロ原子を本質的に可逆的な収着であるよう に十分に弱い結合エネルギーで結合し、前記ヘテロ原子収着剤が前記ヘテロ原 子を前記下流のプロセス対する影響が無視できるような速度で放出する、請求 項3の方法。17.前記水素処理触媒が、水素精製触媒、水素化分解触媒、水素添加触媒、水素 化異性化触媒、開環触媒、接触脱ろう触媒、又はそれらの組み合わせから成る 群から選択される、請求項1の方法。18.前記水素処理触媒が、水素精製触媒、水素化分解触媒、水素添加触媒、又は それらの組み合わせから成る群から選択される、請求項6の方法。19.前記ヘテロ原子収着剤が、還元された金属、金属酸化物、金属硫化物、クレ ー、酸性塩、スピネル、ゼオライト、活性炭、アルミナ、アルミノ珪酸塩、ハ イドロタルサイト、又はそれらの組み合わせから成る群から選択される、請求 項1の方法。20.前記ヘテロ原子収着剤の還元された金属、金属硫化物、又は金属酸化物が、 元素の周期表の第Ia,Ib,IIa,IIb,IIIA,IVA,VB,VIB,VIIB,VIII族又はそれらの 組み合わせから成る群から選択される金属に基づく、請求項19の方法。21.触媒領域と収着剤領域の間を通過する前記液体流れの温度を、収着剤の収着 能力を改善するために、インジェクション急冷又は熱交換によって下げる、請 求項1の方法。22.触媒領域と収着剤領域の間を通過する前記液体流れをストリッピング領域に 通して、収着剤領域に入る前に揮発性のヘテロ-ヒドリドを除去する、請求項 1の方法。23.前記ヘテロ原子収着剤を(a)の前記ヘテロ原子水素処理触媒領域に混合してい れる、請求項1の方法。24.前記ヘテロ原子収着剤を(d)の前記下流の触媒領域に混合していれる、請求 項4の方法。25.前記液相流出物が(d)のヘテロ原子に対して感受性を有する触媒、プロセス 、又は生成物の処置に送られる前に、ヘテロ原子収着剤床の下流に配置され水 素含有処理ガスの向流流れと接触して運転されるヘテロ原子水素処理触媒の追 加の領域が存在する、請求項2の方法。26.前記液相流出物が(d)のヘテロ原子に対して感受性を有する触媒、プロセス 、又は生成物の処置に送られる前に、ヘテロ原子収着剤床の下流に配置され水 素含有処理ガスの向流流れと接触して運転されるヘテロ原子水素処理触媒の追 加の領域が存在する、請求項14の方法。27.前記ヘテロ原子が、硫黄、窒素、酸素、ハロゲン、及びそれらの混合物から 成る群から選択される、請求項1の方法。28.ヘテロ原子に対して感受性を有するプロセスが芳香族飽和プロセスである、 請求項4の方法。29.ヘテロ原子に対して感受性を有するプロセスが選択的水素化分解プロセスで ある、請求項3の方法。
IPC (4件)：
C10G 65/04
, B01D 15/00
, C10G 25/00
, C10G 45/02
C10G 65/04
, B01D 15/00 Z
, C10G 25/00
, C10G 45/02
