特許
J-GLOBAL ID:200903052403586450
インベストメント鋳造における中子及びパターンの製造
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-214292
公開番号(公開出願番号):特開2003-053480
出願日: 2002年07月23日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、金属及び合金のインベストメント鋳造で使用するセラミック中子及び遊走性パターンを製造する改良された方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 インベストメント鋳造で使用するためのセラミック中子若しくは遊走性パターンを製造する方法及び装置。流動性セラミック中子若しくはパターン物質は協働するダイで定義される成形穴に導入され、一つ若しくは両者のダイの少なくとも一つの領域は物質で成形穴の充満中に加熱され、次いで、成形穴からセラミック中子若しくはパターン除去前に低い取り出し温度まで冷却される。
請求項(抜粋):
インベストメント鋳造で使用するための成形体の製造方法であって、セラミック中子若しくは遊走性パターンを形成するために選択された流動性物質で協働するダイ間に配置される成形穴の充満と、前記成形穴の充満中に少なくとも一つの前記ダイの少なくとも一つの領域をスーパーアンビエントな温度まで加熱と、及び前記成形穴からの成形体の除去前に前記局地的な領域の低温までの冷却からなる方法。
IPC (2件):
FI (7件):
B22C 9/04 A
, B22C 9/04 D
, B22C 9/04 E
, B22C 9/04 G
, B22C 9/04 K
, B22C 9/04 R
, B22C 9/24 C
Fターム (2件):
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