特許

J-GLOBAL ID：200903052410234608

紫外線処理装置

発明者： 細谷 浩二
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
代理人 (1件)： 河▲崎▼ 眞樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032918
公開番号（公開出願番号）：特開2000-233129
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】 紫外線ランプの劣化により紫外線量が低下しても、処理速度が低下しないようにし、紫外線ランプをできるだけ長く使えるようにする。【解決手段】 紫外線ランプを用いオゾンと紫外線の作用により被処理物表面の親水化を行う紫外線処理装置に、紫外線ランプの劣化による紫外線量の低下に応じて処理室内に酸素ガスを導入するガス導入手段を設け、酸素ガスの導入により処理室内のオゾン濃度を上昇させ、これにより紫外線による反応効率を上昇させて処理速度を維持する。

請求項（抜粋）：

紫外線ランプを用いオゾンと紫外線の作用により被処理物表面の親水化を行う紫外線処理装置において、紫外線ランプの劣化による紫外線量の低下に応じて処理室内に酸素ガスを導入するガス導入手段を備えていることを特徴とする紫外線処理装置。

IPC (3件)：

B01J 19/12 ,  C08J 7/18 ,  C01B 13/10

FI (3件)：

B01J 19/12 F ,  C08J 7/18 ,  C01B 13/10 D

Fターム (13件)：

4F073AA01 ,  4F073BB02 ,  4F073CA47 ,  4F073DA01 ,  4F073DA07 ,  4G042CA03 ,  4G042CE04 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075CA33 ,  4G075CA51 ,  4G075EB31 ,  4G075EC02